Описание:

Компания idonus предлагает инновационную систему УФ фотолитографии, в основе которой лежит использование светодиодов высокой мощности и микролинзовой камеры высокого качества производства Швейцарии.

Система разработана для экспонирования фоторезиста и подходит для пластин различного размера и формы. Качество модуля засветки обеспечивает высокую однородность критических размеров и углов боковых стенок по всей поверхности. Наша система гарантирует идеально стабильное качество засветки фоторезиста, т.е. высокую равномерность и малые углы расхождения пучка по всей поверхности, благодаря телецентрической оптике.

Основные возможности:

• Продолжительность службы LED, больше не требуются расходные материалы
• Отсутствует необходимость в ежедневной калибровке, стабильное освещение незамедлительно
• Ограниченный нагрев, уменьшение расходов на охлаждение воздуха
• Низкое потребление энергии
• Индикатор «ON» горит только во время экспонирования (затвор не требуется)
• Отсутствуют расходы на техобслуживание

Преимущества LED

Современные достижения в области светодиодной технологий позволяют использовать ультрафиолетовую светодиодную засветку, которая имеет больше преимуществ, чем стандартная на основе ртутных источников:

• Продолжительность службы LED, больше не требуются расходные материалы
• Отсутствует необходимость в ежедневной калибровке, стабильное освещение незамедлительно
• Ограниченный нагрев, уменьшение расходов на охлаждение воздуха
• Низкое потребление энергии
• Индикатор «ON» горит только во время экспонирования (затвор не требуется)
• Отсутствуют расходы на техобслуживание

Возможно изготовление системы освещения по индивидуальному заказу в полном соответствии с вашими требованиями. Возможна интеграция системы в вашу установку экспонирования с заменой ртутной лампы.

Картина интенсивности освещения (8 ×8 см2)

 

Система экспонирования с электронным контроллером

Стандартные характеристики

Различные примеры конфигураций установки экспонирования указаны в таблице ниже. Система может работать с различными длинами волн и обеспечивает аналогичные характеристики экспонирования как в системах с ртутными источниками. Система может быть разработана под ваши технические требования.

Технические характеристики: